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產(chǎn)品方案

微區(qū)膜厚測(cè)量?jī)x與反射光度計(jì)

微區(qū)膜厚測(cè)量?jī)x與反射光度計(jì)
用于微米級(jí)表面尺寸光學(xué)反射率,薄膜厚度及膜層材料光學(xué)參數(shù)(n&k)的快速測(cè)量。 線上咨詢

產(chǎn)品介紹:

用于微米級(jí)表面尺寸光學(xué)反射率,薄膜厚度及膜層材料光學(xué)參數(shù)(n&k)的快速測(cè)量。可以在0.1秒鐘內(nèi)同時(shí)獲取單層薄膜厚度和材料光學(xué)參數(shù)。該儀器可用于各種環(huán)境、如實(shí)驗(yàn)室、工廠生產(chǎn)線及野外的實(shí)時(shí)測(cè)量。

 

關(guān)鍵優(yōu)勢(shì):

  • 小光斑:測(cè)量光斑直徑從5μm100μm
  • 測(cè)速快:?jiǎn)吸c(diǎn)測(cè)量時(shí)間小于0.1
  • 精度高:反射率精度0.1%,膜厚精度達(dá)0.2nm
  • 波長(zhǎng)范圍:350nm1000nm1000nm1700nm
  • 小型便捷:重量2.8公斤,USB連接計(jì)算機(jī),軟件易學(xué)好用

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

  • 光學(xué)鍍膜:鏡片增透膜、高反膜、分光膜測(cè)量
  • 醫(yī)療器件:內(nèi)窺鏡鏡片反射率、內(nèi)聚對(duì)二甲苯保護(hù)層、醫(yī)療器械表面涂層測(cè)量
  • 半導(dǎo)體制造:二氧化硅(SiO2)、氮化硅(Si3N4)、ITO(氧化銦錫)、有機(jī)發(fā)光層、聚酰亞胺(PI)、光刻膠厚度測(cè)量
  • 太陽(yáng)能電池:氮化硅減反射膜、氧化鋁鈍化層測(cè)量


 

產(chǎn)品規(guī)格:

參數(shù)

技術(shù)指標(biāo)

測(cè)量?jī)?nèi)容

反射率,膜層厚度及光學(xué)常數(shù)(n&k

光斑尺寸

5μm10μm50μm80μm100μm

膜厚范圍

15nm100μm,精度為0.2nm

測(cè)量時(shí)間

單點(diǎn)測(cè)量時(shí)間小于0.1

光譜范圍

350nm1000nm1000nm1700nm

樣品尺寸

1mm100mm

儀器重量

2.8公斤

儀器尺寸

29 x 23 x 25cm

數(shù)據(jù)處理

USB數(shù)據(jù)傳輸,配套軟件Film_Analyzer

操作系統(tǒng)

Windows10及以上系統(tǒng)

電源

100-240 VAC50/60Hz0.4A

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服務(wù)電話服務(wù)電話17715160698
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